真空電鍍受設(shè)備內(nèi)真空環(huán)境體積影響，因此對(duì)靶材尺寸有一定的要求，不適合大靶材，常見的真空腔室內(nèi)靶材應(yīng)小于1.2 * 1.1m3.94 * 3.3ft，3d工件應(yīng)小于1.2 * 0.5m3.94 * 1.6ft真空電鍍的工件表面必須保持干燥、光滑，否則會(huì)影響處理效果。

真空電鍍

在表面處理工藝上，真空電鍍成為新趨勢(shì)。更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染排放的特點(diǎn)，與一般電鍍不同，真空電鍍，可以生產(chǎn)出普通電鍍無法達(dá)到的光澤度---的黑色效果。

真空電鍍對(duì)基材的影響：基體外表狀況對(duì)掩蓋才能的影響。基體資料的外表狀況是影響掩蓋才能的主要要素之一。實(shí)習(xí)標(biāo)明，金屬在不一樣基體資料上電堆積時(shí)，同一鍍液的掩蓋才能不一樣也很大。膜層分離力強(qiáng)，在真空電鍍加工過程中，有局部電子撞擊到基材外表，激發(fā)外表原子，并且產(chǎn)生清潔的作用，如用---溶液鍍鉻，惠州五金電鍍，金屬鉻在銅、鎳、黃銅和鋼上堆積時(shí)，鍍液的掩蓋才能順次遞減。

電鍍系統(tǒng)：分類：平面兩極式：靶材為負(fù)極，真空電鍍，基材為正極。三極式：由陽極，陰極，深圳真空電鍍廠家，外加電子源等三種電極所組成的系統(tǒng)。外加電子源產(chǎn)生電場(chǎng)加速正極離子化的氣體分子。三極式系統(tǒng)不能使用于反應(yīng)性電鍍，因?yàn)殡娮訒?huì)影響反應(yīng)氣體與污染燈絲。磁控電鍍：利用磁場(chǎng)作用提高電鍍速率。反應(yīng)電鍍：將反應(yīng)性氣體導(dǎo)入真空腔中，并與金屬原子產(chǎn)生化合物以鍍著。

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