硅片清洗烘干
方法：濕法清洗＋去離子水沖洗＋脫水烘焙熱板150～2500c，1～2分鐘，氮氣保護
目的：a、除去表面的污染物顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子；b、除去水蒸氣，是基底表面由親水性變為憎水性，增強表面的黏附性對光刻膠或者是hmds-〉二硅胺烷。
化學清洗槽也叫酸槽/化學槽，主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質，去離子，去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業酒精，是用來clean機臺或parts的，是為了減少partical的。
單片波清洗機在配合超稀化學液體 (ppm級別)使用后，可用于微小顆粒小于65nm去除以及化學氧化層控制，以替代傳統nano spray清洗技術，在薄膜沉積后的清洗領域有廣泛的應用前景。盛美半導體的-王暉介紹稱 “經過不斷優化，該清洗機已于近日通過了韓國集成電路大廠的大生產線工藝評估，led酸洗設備，有望成為下一代微小顆粒清洗的主流設備”。
mems傳感器應用于無創胎心檢測，檢測胎兒心率是一項技術性很強的工作，led腐蝕設備，由于胎兒心率很快，在每分鐘l20～160次之間，用傳統的甚至只有放大作用的超聲多普勒儀，用人工計數很難測量準確。而具有數字顯示功能的超聲多普勒，價格昂貴，僅為少數大醫院使用，在中、小型醫院及廣大的農村地區無法普及。此外，揚州led，超聲振動波作用于胎兒，會對胎兒產生很大的不利作用。盡管檢測劑量很低，也屬于有損探測范疇，不適于經常性、重復性的檢查及家庭使用。
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