宿遷晶圓-晶淼半導(dǎo)體-晶圓清洗設(shè)備

超聲波清洗機(jī)的應(yīng)用

金融、造幣行業(yè)：

需要清洗的產(chǎn)品：圖章、受理號(hào)碼牌子、瓷器、金/銀制品等

污染源：手垢、灰塵、指紋、臟污

使用清洗劑：中性洗滌劑、堿性洗滌劑；純水

印刷/制版行業(yè)：

需要清洗的產(chǎn)品：旋轉(zhuǎn)機(jī)、金屬板、鉛字、母字、-小玻璃瓶、照相底版、金屬底盤等

污染源：油墨、指紋、油、染料

使用清洗劑：輕油石油系洗滌劑；堿性洗滌劑、中性洗滌劑

濕法刻蝕設(shè)備

是一種刻蝕方法，主要在較為平整的膜面上刻出絨面，從而增加光程，宿遷晶圓，減少光的反射，刻蝕可用稀釋的-等濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是中學(xué)化學(xué)課中化學(xué)溶液腐蝕的概念，它是一種純化學(xué)刻蝕，具有優(yōu)良的選擇性，晶圓酸洗，刻蝕完當(dāng)前薄膜就會(huì)停止，而不會(huì)損壞下面一層其他材料的薄膜。由于所有的半導(dǎo)體濕法刻蝕都具有各向同性，所以無(wú)論是氧化層還是金屬層的刻蝕，橫向刻蝕的寬度都接近于垂直刻蝕的-。這樣一來(lái)，晶圓清洗設(shè)備，上層光刻膠的圖案與下層材料上被刻蝕出的圖案就會(huì)存在一定的偏差，也就無(wú)法高地完成圖形轉(zhuǎn)移的工作，因此隨著特征尺寸的減小，在圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程中基本不再使用。目前，濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)，而在圖形轉(zhuǎn)移中干法刻蝕已占據(jù)--。