噴淋清洗機
是一種利用水壓沖洗物體表面的工業清洗設備。它將工件表面污垢剝離，沖走，達到清洗物體表面的目的。該機具有工位多，功能全，結構合理，操作方便，清洗效果好，對于大批量工件的清洗，蘇州晶圓，-勞動環境，提高清洗和吹干，晶圓清洗臺，具有重要的意義。該清洗機為繼電器控制全自動形式，晶圓清洗機，除人工裝卸工件外，其它工藝工序過程全部自動完成。
水基清洗機原理：
清洗機由于應用場合和洗滌對象的不同，以及污垢附著的基體的性質差異很大，清洗機理也是復雜的。可簡單地將清洗分為以三個過程：
●向被洗物內浸透洗凈溶液的過程一浸透作用；
●污垢從固體表面分離的過程—擴張作用； 污垢進行分散保護的過程的過程—分散、浮化、可溶化作用；
●污垢從被洗物除去的過程。
在利用水基清洗機進行清洗時，洗滌對象的表面活性物質的表面性能發生了相當大的變化，如果將1cm3立方體分割成1021個立方體的話，可以計算出它的表面積總和將為6000m2，這時此物質的表面及界面的特性就上升為主要的了，其自由能，表面張力等均發生了質的變化。表面張力為一定值時的濃度。在此濃度下，水基清洗機里的水溶液的許多物理化學性質會發生-的變化，使用時應-注意。
nano-master的技術也適用于清洗背部以及帶保護膜掩模版前面的對準標記，降低這些掩模版的不-去除和重做保護膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準備表面以便再次覆膜。此外，晶圓清洗設備，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。
化學清洗槽也叫酸槽/化學槽，主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質，去離子，去原子，后還有di清洗。ipa是，就是工業酒精，是用來clean機臺或parts的，是為了減少partical的。
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