單片蝕刻機(jī)，刻蝕機(jī)加盟，這種蝕刻機(jī)一般只適合刀模，銅版，連云港晶圓，鋅板的蝕刻，蝕刻機(jī)噴淋是固定的，梅州刻蝕機(jī)，內(nèi)置一個(gè)360度轉(zhuǎn)盤，晶圓清洗機(jī)，金屬板材扣于轉(zhuǎn)盤底部，通過(guò)轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)來(lái)使得蝕刻板表面得到一個(gè)均勻的蝕刻-。
是單輥蝕刻機(jī)，這種蝕刻機(jī)只適合做壓花輥蝕刻。常用于織造布匹，皮革等表面壓花輥表面花紋蝕刻。蝕刻為兩個(gè)寬度可調(diào)節(jié)的噴架，壓輥置于兩噴架中間，通過(guò)電機(jī)帶過(guò)壓輥的固定軸，讓蝕刻藥液噴淋于壓輥表面，從而得到一個(gè)表面平整的紋理效果。
蝕刻機(jī)就是水平噴淋式蝕刻機(jī)，也是平面蝕刻產(chǎn)品中用途廣泛的蝕刻設(shè)備
離子束刻蝕的原理是把惰性氣體充入離子源放電室，并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面，撞擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，純屬物理過(guò)程。采用離子束對(duì)材料表面進(jìn)行拋光，可使材料表面達(dá)到較小粗糙度。
清洗槽也叫酸槽/化學(xué)槽，主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子，去原子，后還有di清洗。ipa是，晶圓清洗，就是工業(yè)酒精，晶圓清洗臺(tái)，是用來(lái)clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。
按照刻蝕工藝劃分，其主要分為干法刻蝕以及濕法刻蝕。由于干法刻蝕可以實(shí)現(xiàn)各向-刻蝕，符合現(xiàn)階段半導(dǎo)體制造的高集成度的需求，因此在小尺寸的-工藝中，基本采用干法刻蝕工藝，導(dǎo)致干法刻蝕機(jī)在半導(dǎo)體刻蝕市場(chǎng)中占據(jù)相對(duì)主流-。而按照被刻蝕材料劃分，可以分為硅刻蝕、介質(zhì)刻蝕以及金屬刻蝕。目前由于下游的需求場(chǎng)景較多，介質(zhì)刻蝕機(jī)與硅刻蝕機(jī)的市場(chǎng)占比較高，成為市場(chǎng)主流。
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