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鉬濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(pvd)方式。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為ar氣)，在電場的作用下，ar氣電離成正離子和電子的， 靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以-的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、磁、光記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
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鉬合金應用半導體技術(shù)子：鉬的熱膨脹系數(shù)與硅相近，鉬在晶體管和半導體元件方面得到了廣泛的應用。硅單晶基板用的鉬圓片、陰極側(cè)連接用鉬圓片及圓環(huán)。
鉬合金的典型應用 ：照明行業(yè)：傳統(tǒng)白熾燈中支撐鎢絲鉬桿、鉬管腳、鉬吊鉤、鉬環(huán)；鎢絞絲芯桿；及鹵素燈中用于同石英玻璃密封的鉬窄帶；用于降低汽車前燈亮度的護罩；用于汽車和摩托車前燈支撐桿的高溫鉬絲。
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鉬管材主要以鑄錠或燒結(jié)錠為擠壓管坯，采用溫加工工藝，通過軋制、拉拔或旋壓制成各種管材。中國采用溫軋生產(chǎn)小直徑鉬管。初軋溫度一般在 650℃左右，終軋溫度大約350℃。溫軋道次加工率一般在20～35%之間，可達40%以上。對于直徑為8毫米、壁厚為0.5毫米的鉬管而言，軋管可長達6500毫米。溫軋鉬管有-的內(nèi)外表面，-的室溫塑性，并可進一步拔制成毛細管。直徑較大的薄壁管一般用擠壓或燒結(jié)管坯再經(jīng)旋壓加工而成。
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