真空電鍍添加劑包羅無機(jī)添加劑(如鍍銅用的鎘鹽)和有機(jī)添加劑(如鍍鎳用的-等)兩大類。早期所用的電鍍添加劑大多數(shù)為無機(jī)鹽類，隨后有機(jī)物才逐步在電鍍添加劑的隊(duì)伍中取得了--。按功用分類，電鍍添加劑可分為光亮劑、整平劑、和潮濕劑等。不一樣功用的添加劑通常具有不一樣的布局特色和效果機(jī)理，真空電鍍廠家，但多功用的添加劑也較常見，金屬真空電鍍，例如糖精既可作為鍍鎳光亮劑，而且不一樣功用的添加劑也有能夠遵從同一效果機(jī)理。
水電鍍和真空電鍍兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)：
a、簡單來說，真空電鍍不過uv油，其附著力很差，無法過百格test，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為-真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理，成本當(dāng)然高些.
b、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、-藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就-為力了.而真空電鍍可以解決七彩色的問題.
c、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，常州真空電鍍，這是非材料.對于“六價鉻”有如下的要求：
歐盟： 76/769/eec：禁止使用； 94/62/ec：<100ppm；
如此嚴(yán)格的要求，國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合要求.
簡單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù).
它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，塑膠真空電鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備.
電鍍的表面積越大，中心部位與邊緣的光澤差別也越大，略帶拋物面能-鍍面光澤的均勻性。
登錄后臺
