玻璃鍍膜設備是利用真空磁控濺射方式在浮法玻璃表面進行鍍膜的設備，鍍膜艙室真空度為1.0e-6mbar的高真空，生產線采用真空磁控濺射方式在玻璃表面進行鍍膜，保持高真空環境是玻璃鍍膜設備的基本條件。
玻璃鍍膜設備由真空腔室、鍍膜腔室、狹縫閥、工藝介質平臺、狹縫閥、傳動系統、液壓設備、冷卻系統、放氣系統、壓縮空氣系統、冷卻水系統等組成，采用電氣程序全自動控制。
玻璃基片通過傳動輥道實現水平直線傳輸，依次經過鎖室、緩沖室、過渡室進入工藝腔室，鍍膜工藝完成后，飾品真空鍍膜設備，經過渡室、緩沖室、鎖室傳出。傳動輥道間通過同步齒形皮帶聯動，五金配件真空鍍膜設備，傳動輥道由減速機通過施密特聯軸器、剛性聯軸器等與輥道相連。真空系統主要通過各種真空泵來實現，在生產線各個關鍵位置均安裝各級真空規測量真空度。
進口不導電ncvm鍍膜設備應用于塑料電子產品:手機外殼、手機按鍵、電腦、數碼、電子通信等的表面鍍制不導電膜ncvm。大功率蒸發系統，可控硅控制，真空鍍膜設備，重復性、穩定性高，-鍍透電極設計，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度，擁有-的工件架技術，轉速平穩可調，產量大且良品率高。
ncvm是采用鍍出金屬及盡緣化合物等薄膜，利用相互不連續之特性， 得到外觀有金屬-且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實現不導電，滿足無線通訊產品的正常使用
1.1真空鍍膜vacuumcoating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。
1.2基片substrate：膜層承受體。
1.3試驗基片testingsubstrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和或試驗的基片。
1.4鍍膜材料coatingmaterial：用來制取膜層的原材料。
1.5蒸發材料evaporationmaterial：在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。
1.6濺射材料sputteringmaterial：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。
1.7膜層材料(膜層材質)filmmaterial：組成膜層的材料。
1.8蒸發速率evaporationrate：在給定時間間隔內，蒸發出來的材料量，除以該時間間隔
1.9濺射速率sputteringrate：在給定時間間隔內，濺射出來的材料量，除以該時間間隔。
1.10沉積速率：在給定時間間隔內，沉積在基片上的材料量，除以該時間間隔和基片表面積。
1.11鍍膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。
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