? 真空不銹鋼腔體
? 可集成熱蒸發(fā)源或濺射源
? 可旋轉的耐氧化基片加熱臺
? 流量計或針閥準確控制氣體流量
? 標準真空計? 干泵與分子泵
? 可選配不銹鋼快速進樣室
? 可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)
? 是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備
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很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力>;100 torr下冷卻是有利的。所有pioneer 系統(tǒng)設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到---壓力。這也有益于納米粒子的生成。
pioneer pld 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜的影響，所有pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油真空系統(tǒng)。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜的關鍵參數。pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離，激光脈沖沉積設備報價，對沉積條件進行較大的控制。
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是比較理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2d材料。blue wave還提供相關系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，bluewave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶si/sic、晶體aln-gan、聚合物、納米鉆石、hfcvd鉆石涂層以及器件加工。
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