有時將此方法用作預涂層，目的是提高基材的耐久性，飾品真空鍍膜設備，減少摩擦并---熱性能-這意味著人們可以在同一涂層中結合pvd和cvd層等沉積方法。
在數學建模和數值模擬方面也有大量研究有助于---此過程，電子真空鍍膜設備，這可能是優于其他過程的優勢。這些研究對------的特性有很大的影響，從而導致未來的成本降低，以及對薄膜機械性能的---。
由于磁控濺射技術的發展將集中在未來對這些特定反應器的改進上，因此這項工作已成為主要重點。
真空鍍膜設備
以下是制備的-條件：
在沉積溫度下，反應物具有足夠的蒸氣壓，真空鍍膜設備，并能以適當的速度被引入反應室；
反應產物除了形成固態薄膜物質外，都必須是揮發性的；
沉積薄膜和基體材料必須具有足夠低的蒸氣壓。
cvd技術是作為涂層的手段而開發的，但不只應用于耐熱物質的涂·層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域，其工藝成本具體而定。
化學氣相沉積工藝是這樣一種沉積工藝，被沉積物體和沉積元素單元或多元蒸發化合物置于反應室，五金真空鍍膜設備，當高溫氣流進入反應室時，可控制的反應室可使其發生一種合適的化學反應，導致被沉積物體的表面形成一種膜層，同時將反應產物及多余物從反應室蒸發排除。
鍍膜機工藝在防偽技能中的運用防偽膜品種許多，從運用辦法可分為反射式和透射式；從膜系附著辦法能夠分為直接鍍膜式、直接鍍膜式或直接鍍膜剪貼式。
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