想了解更多關(guān)于脈沖激光沉積的相關(guān)，請持續(xù)關(guān)注本公司。
1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有-的保成分性；
2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，激光脈沖沉積設(shè)備，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有-；
4. 發(fā)展?jié)摿?，具有-的兼容性；
5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
脈沖激光沉積原理：在真空環(huán)境下利用脈沖激光對靶材表面進(jìn)行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來，激光脈沖沉積設(shè)備，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。
脈沖激光沉積技術(shù)適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，-物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。
以上就是關(guān)于脈沖激光沉積的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
1.靶: 數(shù)量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制;
2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn)，激光脈沖沉積設(shè)備報價，工作環(huán)境的壓力可達(dá)300mtorr;
3.基板加熱電源，高到1200度;
4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運(yùn)室:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;
7.閥門: 采用真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分rheed;
11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換等;
12.各種電流導(dǎo)入及測溫端子;
13.其它各種構(gòu)造:各種真空位移臺，磁力傳輸桿，激光脈沖沉積設(shè)備價格，真空法蘭，真空密封墊圈，真空用波紋管等;
登錄后臺
