磁控濺射鍍膜機
各種鍍膜技術都需要一個蒸發源或蒸發靶，以便將蒸發的成膜物質轉化為氣體。隨著來源或目標的不斷提高，電影制作材料的選擇范圍也---擴大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質膜，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。
蒸發或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。膜厚可以測量和控制。磁控鍍膜機的真空鍍膜技術的特點主要包括真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學氣相沉積。
真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，有機高分子鍍膜設備制造商，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，有機高分子鍍膜設備，磁控濺射，mbe分子束外延，pld激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
無論監控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，有機高分子鍍膜設備價格，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響較小。
parylene是美國union carbide co.公司在六十年代推出的一種氣相沉積高分子聚合物材料，有機高分子鍍膜設備，由的真空氣相沉積工藝制備，能涂敷到各種形狀的表面，號稱“無孔不入”，被業內稱為好的防潮、防霉、防腐、防鹽霧的特殊防護涂層。parylene可分為n型、c型、d型、f型、ht型等多種類型
現在，系統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。
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