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真空鍍膜技術一般分為兩大類：物---相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。真空蒸鍍，其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，真空鍍膜加工，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，

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真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優點：真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點。生活離不開真空電鍍：通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的---優點。

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