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在晶圓上制造芯片需要數千個過程，從設計到生產需要三個多月的時間。為了從晶圓上取出芯片，用鉆石鋸切割成單個芯片。這些被稱為晶的芯片是從12英寸的晶圓中分離出來的。12英寸晶圓是半導體制造中常用的尺寸。由于芯片的尺寸不同，有些晶圓可以包含數千封裝這些晶體隨后被放置在基板上——這個基板使用金屬箔將晶體的輸入和輸出信號引導到系統的其他部分。然后我們將用均熱片覆蓋它。均熱片是一個裝有冷卻液的小型扁平金屬保護容器，以---芯片在運行中保持冷卻。個芯片，增壓器聯系電話，而有些只包含數十個芯片。

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正負光刻膠的主要區別在于材料的化學結構和光刻膠對光的反應方式。對于正光刻膠，暴露在紫外線下的區域會改變結構，變得更容易溶解，增壓器，從而為刻蝕和沉積做好準備。負光刻膠恰恰相反，受光照射的區域會聚合，使其更難溶解。正光刻膠常用于半導體制造，因為它能達到更高的分辨率，從而成為光刻階段---的選擇。如今，上許多公司生產半導體制造的光刻膠。

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