三豐表面粗糙度儀SJ-500P、數據處理裝置PC表面粗糙度儀

3、清鎮jx1149多功能等離子處理系統optiglow acejx1156-內容

應用領域：

• 生物芯片領域

• 材料、光學材料研究

• 電子半導體領域

• 高分子材料研究

• 電化學、---零部件處理

• 有機材料的灰化、刻蝕

儀器性能：

• 自動調頻高頻發生器

• 內置旋轉真空泵

• 此系統通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機物質碳氫化合物，氬對樣品表面進行刻蝕

• 低溫等離子灰化、刻蝕、清洗 (0-150 watts rf)

• 真空監測.

• 雙重氣流針閥控制

• ---時間定時

• 微處理器程序設置

• lcd狀態數字顯示

• 腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統，樣本操作方便

• 聚碳酸脂安全防護  

全自動多功能等離子表面處理系統應用于小型及研發實驗室的使用和發展歷史已經超過了20年，隨著研發提升及軟硬件更新，現在的系統不但擁有使用的高穩定性和---率外，其集成化設計和友好操作界面使得用戶上手操作及參數調整都非常簡易。

射頻等離子體是廣泛使用和通用性好的等離子體技術，它應用于-和半導體的寬廣領域內。在通用工業/-行業，需要清潔、涂覆或化學改性的材料表面被浸入到射頻等離子體的能量環境中，除了射頻等離子體的-的化學作用外，其定向效應也起到了一個重要的作用。攜帶動量的粒子到達材料表面后可以物理地去除化學惰性的表面沉淀物如金屬氧化物和其它無機物沉淀以及交聯聚合物以鎖定等離子體的處理。  

optiglow  ace 是-設計用于等離子體處理包括灰化,清洗,表面活化,改性和刻蝕，具有功能性多、易操作性強、無需調試、-性高、低成本的優點，廣泛應用在半導體制造，微電子微納加工，生命科學器件制造和前處理等。ace適合多種工藝氣體，如ar、o2、空氣及化合物氣體如cf4，通過2個氣體流量控制氣體 準和提高系統控制性能。除了結構緊湊和集成度高外，-的射頻rf激發等離子體(13.56mhz,10-150w)配合-的工藝控制、失效保護 系統和數據采集軟件使其很容易安裝在實驗室或環境中。
optiglow  75 (100khz,75w)是理想的用于等離子表面改性，表面活化胺化團，光刻膠剝離和清洗，在涂層鍍膜,  沉積繪圖和覆膜前增加基底鍵合強度，粘性和濕性。