氧化鎳靶材NIO磁控濺射靶材

北京京邁研材料科技有限公司為您提供氧化鎳靶材nio磁控濺射靶材。科研實驗---氧化鎳靶材nio磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料
產品介紹
氧化鎳nio熔點：1980±20℃，密度：6.67g/cm3，不溶于水，不溶于堿液，為堿性氧化物，溶于酸。用作搪瓷的密著劑和著色劑，陶瓷和玻璃的顏料。在磁性材料生產中用于生產鎳鋅鐵氧體等，以及用作制造鎳鹽原料、顯像管中應用。用作電子元件材料、催化劑、搪瓷涂料和蓄電池材料。
產品參數
中文名 氧化亞鎳 化學式 nio
分子量 74.71 熔點 1984℃
密度 6.67g/cm
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例重量比或原子比、規格，我們會盡快為您報價！！
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，---，售后---！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法gdms或icp光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量---材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。
加工流程：熔煉***提純***鍛造***機加工***檢測***包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們---建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3w/cm2。

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