-濃度:通常采用15%~20%。濃度升高,膜的溶解速度加大,膜的生長速度降低,膜的孔隙率高,吸附力強,富有彈性,染色性好易于染深色,但硬度,耐磨性略差;而降低-濃度,則氧化膜生長速度加快,膜的孔隙少,硬度高,耐磨性好。所以,用于防護,裝飾及純裝飾加工時,多使用允許濃度的上限,即20%濃度的-做電解液。電解液溫度:電解液溫度對氧化膜影響很大。溫度升高,膜的溶解速度加大,膜厚降低。當溫度為22~30℃時,所得到的膜是柔軟的,吸附能力好,但耐磨性相當差;當溫度大于30℃時,膜就變得疏松且不均勻,有時甚至不連續(xù),且硬度低,因而失去使用價值;當溫度在10~20℃之間時,所生成的氧化膜多孔,吸附能力強,鋁合金氧化小件,并富有彈性,適宜染色,但膜的硬度低,耐磨性差;當溫度低于10℃,氧化膜的厚度增大,硬度高,耐磨性好,但孔隙率較低。因此,生產時必須嚴格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時,必須降低操作溫度,在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度,通常在零度左右進行硬質氧化。電流密度:在一定限度內,電流密度升高,膜生長速度升高,氧化時間縮短,生成膜的孔隙多,易于著色,且硬度和耐磨性升高;電流密度過高,則會因焦耳熱的影響,使零件表面過熱和局部溶液溫度升高,膜的溶解速度升高,且有燒毀零件的可能;電流密度過低,則膜生長速度緩慢,但生成的膜較致密,硬度和耐磨性降低。氧化時間:氧化時間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比;但當膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大,所以膜的生長速度會逐漸降低,到不再增加。
1近年來利用電解著色沉積磁性金屬或磁性合金如鐵、鈷、鎳及合金,這種電解著色膜具有磁性。能夠用于數據儲存或其他磁記錄。在微電子工業(yè)得到廣泛應用。2電解沉積超硬質和自潤滑的電解著色膜。由于鋁本身相當軟,而陽極氧化提供了一個表面硬化的方法。低剪應力的金屬填充在陽極氧化鋁的微孔中,就是一個提供自潤滑性能的有效方法。在機械工程上有十分重要的使用價值。
復合陽極氧化復合陽極氧化法是一種新型的陽極氧化技術。日本的吉-藏等[4]往鋁陽極氧化液中添加一些難溶粉體,發(fā)現氧化膜的厚度,硬度均有很大變化。曾凌三、梁東[5]也做了類似的實驗,結果發(fā)現這些難溶粉體表面帶電狀態(tài)和膜層表面之間發(fā)生電化學反應,粉體沉積在膜層中,同時也有一部分粉體在機械攪拌作用下進入膜孔內,氧化膜的性能改變取決于粉體的性質和懸浮濃度。