機(jī)械/涂層鍍膜設(shè)備
將性能發(fā)揮限：f1、nascar、motogp、wrc、oss賽艇等，在這些運(yùn)動(dòng)中，每一盎司的重量都經(jīng)過(guò)精打細(xì)算。輕型現(xiàn)代材料的利用具有---性，同時(shí)還減少摩擦損失。機(jī)械/涂層真空鍍膜機(jī)滿(mǎn)足上述要求。
摩擦和磨損：內(nèi)燃機(jī)內(nèi)部的摩擦造成大約百分之十的能效損失。主要的摩擦點(diǎn)來(lái)自活塞總成、氣門(mén)結(jié)構(gòu)和曲軸。由于齒輪需要大量的潤(rùn)滑油以備潤(rùn)滑，也會(huì)造---率損失。
在零件表面使用hc涂層，從而增加負(fù)荷密度，降低潤(rùn)滑需求。鈦等容易磨振和磨損的材料能夠應(yīng)用在上還是歸功于涂層和表面處理，涂層和表面處理能夠降低摩擦系數(shù)，提高硬度，同時(shí)還能保持基體材料本身的---性能。
工程：至成鍍膜機(jī)廠(chǎng)家真空---從零件設(shè)計(jì)開(kāi)始就與客戶(hù)合作，以滿(mǎn)足每一客戶(hù)的特定需求。
不僅僅只是涂層：為達(dá)到---性能，愛(ài)恩邦德采用了大量專(zhuān)門(mén)研發(fā)的涂層表面預(yù)/后處理技術(shù)，與涂層相結(jié)合，能夠發(fā)揮涂層的優(yōu)勢(shì)性能。
金屬首飾真空鍍膜機(jī)特點(diǎn)：
1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴(kuò)大在陰極表面磁場(chǎng)接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細(xì)膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能---，能夠根據(jù)工作電流30a時(shí)，優(yōu)化陰極和磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散，再加上離子束輔助功能沉積。
應(yīng)用行業(yè)：設(shè)備被廣泛應(yīng)用于ipg的時(shí)鐘，ips手表和鐘表，的ip，手機(jī)外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備tin，ticn涂層，氮化tialn，tinbu，ticrn，氮化---，各類(lèi)鉆石薄膜dlc。
鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生噴點(diǎn)主要有以下幾種原因:
1、鍍膜材料純度不高，含雜質(zhì)較多,預(yù)熔過(guò)程中無(wú)法將這些雜質(zhì)去除,蒸鍍過(guò)程中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點(diǎn)。
2、材料較為潮濕,預(yù)熔時(shí)電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過(guò)程中也容易產(chǎn)生噴點(diǎn)(這種情況在用國(guó)產(chǎn)電子槍鍍制mgf2及一些直接升華的材料時(shí)較易發(fā)生)。
3、鍍膜前對(duì)材料進(jìn)行預(yù)熔時(shí)不夠充分,蒸鍍過(guò)程中材料里的細(xì)小顆粒濺上工件表面形成噴點(diǎn)。
4、鍍膜過(guò)程中,電子槍束流過(guò)大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點(diǎn)。
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