公司產品包括石英掩膜版，光罩，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務！
使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式------波長405nm，照射掩膜版上所需圖形區域，使該區域的光刻膠通常為正膠發生光化學反應
經過顯影、定---，---區域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層
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掩模板是根據放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過類似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結構的掩模板通常使用電子束光刻機直接制備，其制作過程就是典型的光刻工藝過程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學反應，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。
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