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產品配置:
★樣片數量及尺寸: 1片φ8英寸或5片φ4英寸或傘形工件架用戶定制
★蒸發材料:金屬;非金屬;化合物等薄膜材料。
★蒸發腔體:高真空系統。
★蒸發不均勻性:≤±3%-±5%
★工件架:可旋轉,激光分子束外延設備,轉速可調
★加熱:常規加熱
★電子:e型,激光分子束外延設備報價,帶xy偏轉掃描
★電子坩堝:6穴,激光分子束外延設備,17cc
★膜厚監控功能:石英晶控膜厚在線監測與終點控制
★清洗功能:可選配離子源清洗
★器件一次成型復合實驗系統:通過復合mask系統與樣品對準系統,一次完成器件的多個工藝步驟
★檢測與控制光學特性的功能:可選配光控儀
★操作模式:全自動+半自動控制
以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產電子束,歡迎新老客戶蒞臨。
產品特點/用途:
?設備一體化設計,占地面積小,性能穩定,高,使用維護成本低;
?適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產線前期工藝試驗等;
?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。
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濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面,通過動能傳輸,令靶材的分子原子有足夠的能量從靶材表面逸出,在產品表面凝聚形成薄膜。
用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強,薄膜的純度高,可以同時濺射多種不同成分的材料,但是對靶材的要求高,不能象電子一樣節約資源。
目前運用較多的有磁控濺射,激光分子束外延設備廠家,磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場,將電子約束在陰極靶材表面附近,提高電離效率。它是操作比較簡單的一種,所以運用非常廣。
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