伯東企業(yè)上海有限公司為您提供伯東 kri考夫曼離子源kdc 10用于ibf離子束拋光工藝。
某光學(xué)鏡片制造商為了使光學(xué)鏡片的拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 獲得均勻性更高的薄膜表面, 而采用伯東 kri 考夫曼離子源 kdc 10 用于 ibf 離子束拋光工藝.
kri 離子源 kdc 10 客戶實(shí)際安裝圖如下:
客戶基材: 100 mm 光學(xué)鏡片
離子源條件: vb: 800 v ( 離子束電壓 ), ib: 84 ma ( 離子束電流 ) , va: -160 v ( 離子束加速電壓 ), ar gas ( 氬氣 ).
考夫曼離子源 kdc 技術(shù)參數(shù):
discharge: dc 熱離子
離子束流: >10 ma
離子動能:100-1200 v
柵極直徑:1 cm φ
離子束:---, 平行, 散射
流量:1-5 sccm
通氣:ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型壓力:< 0.5m torr
長度:11.5 cm
直徑:4 cm
中和器:燈絲
kri 離子源 kdc 10 客戶使用結(jié)果:
portant;"> 離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖
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