廢氣的收集：
1、涂漆膠輥：通過在膠輥上方架設集氣罩進行收集，由于空間受限，膠輥更換時要求有足夠的空間，集氣罩設計為可移動可拆卸，集氣罩的尺寸為需根據現場空間設計，并---集氣罩口截面風速不低于1米/秒。
2、調漆間：調漆間一般用采光板搭設，需進行全密封，沸石轉輪圖片，通過一個主管道進入調漆間，由于調漆間空間較大，需在屋頂氣流分布設計，以---調漆間換氣均勻。
3、固化爐：由于固化爐內溫度較高，一般爐內溫度可達200-250℃，而且內部屬于熱風循環，爐內產生的高溫氣體混合voc廢氣會從爐頭及爐尾產生外溢，高溫氣體遇到外界冷空氣產生煙霧，其成分主要為焦油及voc有機廢氣，而且溫度較高。從固化爐頭和爐尾分別架設集氣罩進行廢氣收集，集氣罩的大小根據爐口的煙氣情況設計，需---集氣罩口截面風速不低于1米/秒。
4、堿洗槽：鋼卷進行彩涂之前需進行堿液預處理，堿液需進行加溫，會產生堿霧，需對外溢的堿霧進行處理。在堿霧外溢部分增加集氣罩進行有效收集。
在半導體光催化氧化反應中，通過紫外光照射在納米tio2催化劑上，納米tio2催化劑吸收光能產生電子躍進和空穴躍進，沸石轉輪---，經過進一步的結合產生電子-空穴對，與廢氣表面吸附的水份h2o和氧氣o2反應生成氧化性很活波的---自由基oh-和超氧離子自由基o2-、0-。能夠把各種有機廢氣如醛類、ben類、氨類、氮氧化物、---物以及其它voc類有機物及無機物在光催化氧化的作用下還原成---co2、水h2o以及其它---無害物質，經過凈化之后的廢氣分子被活化降解，東營沸石轉輪，臭味也同時消失了，起到了廢氣---的作用，同時對管道內滋生的------都可以有效的去除，由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑，所以不會產生二次污染，運行成本方面只是用到電能，無需經常更換配件，對于企業來的使用上是相當的節能。
光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(t02)吸收外界輻射的光能，沸石轉輪廠家，使其直接轉變為化學能。當能量大于ti02禁帶寬度的光照射半導體時，光激發電子躍遷到導帶，形成導帶電子(e-)，同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續性，電子和空穴的---較長，它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動，與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發生氧化還原反應，或者被表面晶格缺陷---。空穴和電子在催化劑粒子內部或表面也能直接復合，空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或hzo發生作用生成經基自由基ho ， ho.是一種活性---的粒子，能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。
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